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第二百七十一章 成功了!光刻工厂实现了!(2/2)

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  自动取片。

  雷兵也忍不住上前一步,询问道:“这束光能用吗?如果能用是不是意味着我们能造3纳米芯片了?”

  林天在检验了十几束13.5纳米波长的极紫外光后,也发现了单色性最好的一条光束,将它设定为1号光刻区域。

  第一期相当于测试,等测试通过就可以扩建二期、三期甚至是第四期的光刻工厂。

  岂不是能刻3纳米芯片?

  “确实是我们操之过急了。”

  “我马上操作。”

  要是真能造3纳米芯片,那可不是小小的科技震撼,而是向整个半导体芯片行业扔了个蘑菇弹,要颠覆整个行业的事情了。

  林天喃喃自语。

  “趁着天没亮,我们尽快测试光束的可行性吧。”陈星提醒一句。

  “我们没有单独完整的SOC上帝芯片光掩膜版,只能用两块阴阳掩膜版堆叠在一块形成完整图案,这又会出现个问题。”

  林天点了点头回应道。

  存放在特定区域的半导体硅片被静电吸盘吸起,运送到清洗区域,洗掉附着在半导体硅片表面的灰尘和杂质。

  自动光刻。

  像似给陈星几人解释,又像似说给自己听。

  当然了。

  前提是可以能光刻成功。

  “这句话在理。”

  自动清洗。

  两块光掩膜版已经重叠,他们在特定

  这也是为什么第一期的光刻工厂只有5000平的原因,因为建造太大也没用,像静电吸盘和各类自动化运输的设备,都是需要定制化购买的,关键有些设备国内还没有,比如静电吸盘设备。

  在半导体领域,可不仅仅光刻机和紫外光有纳米等级,光刻胶同样有纳米等级区分。

  又经过了十分钟的参数调试,排除外故障情况,林天输入了确定工作的指令。

  自动涂胶。

  他们现在可是关了全深城的电力供应,哪怕是凌晨4点钟,但依然会对城市造成影响。

  在清洗完成以后,半导体硅片会通过特殊运输通道,运往下一个步骤进行烘烤,待半导体硅片彻底干燥将继续运往下一个步骤,涂抹光刻胶。

  “为了解决这个问题,我加大了粒子加速器的功率,让电子运动的速度再次增加。”

  “理论上来说,运行功率的加大,会同步放大电子运动的速度,电子在环形存储器的速度越快,辐射出的极紫外光能量就越强,但我并不能确定这个数值是不是正确的,只能说理论可行。”

  光刻工厂没有人测试过,谁也不知道行不行。

  现在又因为光掩膜版限制,林天只能加大功率,这给测试又增添了不小的难度。

  “试试就知道了。”

  陈星默默举起手机拍摄。

  虽然他们在操控室,但面前的屏幕有显示洁净室的

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